SRM 2133 - Si深度剖面中的磷种植

NIST SRM 2133Si深度剖面中磷种植(标准品)旨在用于通过二次离子质谱 (SIMS) 分析技术校准对硅基质中微量和痕量磷的二次离子响应。 SRM 2133 用于校准 SIMS 仪器对磷的响应特定仪器条件下的硅基体。它也可以被实验室用作校准硅中磷工作标准的转移标准。该 SRM 由一个 1 cm × 1 cm 的单晶硅衬底组成，该衬底已离子注入同位素 31P，标称能量为 100 keV。

NIST SRM 2133Si深度剖面中磷种植(标准品) 已通过 31P 原子保留剂量认证。剂量以每单位面积的磷质量单位表示。基于 SIMS 分析，提供了关于磷原子浓度随地表以下深度变化的其他未经认证的信息。

认证值和不确定性：

31P 原子的总保留剂量通过放射化学中子活化分析 (RNAA) 确定。将两种独立制备的磷参考溶液（其中一种是 NIST SRM 3139a 磷标准溶液，经过磷浓度认证）的等分试样沉积在铝箔并作为标准。得到的认证值和扩展不确定度为： 认证值中的不确定度表示为扩展不确定度 U = kuc，其中 k 是 2.0 的覆盖因子，给出的近似置信水平为 95 %，uc 是计算得出的组合标准不确定度根据 ISO 指南 [1]。组合标准不确定度是通过组合从测量过程中通过不确定度传播得出或估计的单个标准不确定度获得的 [1]。 A 型和 B 型标准不确定度分量来自以下主要来源的测量不确定度：(1) 样品的测量重复和异质性，(2) 比较标准的测量重复，(3) 标准溶液的浓度，(4) 放射化学杂质，（5）标准的体积校准，和（6）载体产量的测定。已考虑所有已知的潜在不确定性来源